- 加熱爐設備
- 晶體及材料
- 破碎/球磨設備
- 壓片設備
- 輥壓設備
- 切割設備
- 磨拋設備
- 清洗設備
- 電池研發(fā)設備
- 薄膜制備
- 配件
- 其它實驗室設備
ScO2截止面GdScO3晶體基片
- 產品概述:
- GdScO3基底是原子光滑的(110)晶面GdScO3,其中通過特殊蝕刻處理晶體表面獲得單位晶胞高度。 通過反射高能電子衍射和原子力顯微鏡驗證,GdScO3膜在晶體表面上的同質外延以完美的逐層模式進行。 該技術提供了明確限定的襯底表面,用于這種鈣鈦礦氧化物薄膜的原子調節(jié)外延生長。
免責聲明:
本站產品介紹內容(包括產品圖片、產品描述、技術參數等)僅用于宣傳用途,僅供參考。由于更新不及時和網站不可預知的BUG可能會造成數據與實物的偏差,請勿復制或者截圖。如果您對參數有異議,或者想了解產品詳細信息及更多參數,請與本公司銷售人員聯系。本站提供的信息不構成任何要約或承諾,請勿將此參數用于招標文件或者合同,科晶公司會不定期完善和修改網站任何信息,恕不另行通知,請您諒解。
如果您需要下載產品的電子版技術文檔,說明書(在線閱覽),裝箱單,與售后安裝條件等文件,請點擊上方的附件下載模塊中選取。商城產品僅針對大陸地區(qū)客戶,購買前請與工作人員溝通,以免給您帶來不便。
技術參數產品視頻實驗案例警示/應用提示配件詳情
產品名稱
|
ScO2截止面GdScO3晶體基片 |
技術參數
|
常規(guī)晶向: 常規(guī)尺寸:10x10x0.5mm, 5x5x0.5mm ; 拋光情況:單拋 表面終止:ScO2層(通過特殊蝕刻) 表面粗糙度:Ra<5 ?;
GdScO3 (110)晶面的ScO2截止面原子力圖
|
免責聲明:
本站產品介紹內容(包括產品圖片、產品描述、技術參數等)僅用于宣傳用途,僅供參考。由于更新不及時和網站不可預知的BUG可能會造成數據與實物的偏差,請勿復制或者截圖。如果您對參數有異議,或者想了解產品詳細信息及更多參數,請與本公司銷售人員聯系。本站提供的信息不構成任何要約或承諾,請勿將此參數用于招標文件或者合同,科晶公司會不定期完善和修改網站任何信息,恕不另行通知,請您諒解。
如果您需要下載產品的電子版技術文檔,說明書(在線閱覽),裝箱單,與售后安裝條件等文件,請點擊上方的附件下載模塊中選取。商城產品僅針對大陸地區(qū)客戶,購買前請與工作人員溝通,以免給您帶來不便。